VITAは、研究や試作目的の使用に開発されましたコンパクトな装置です。
簡単な操作で使用でき、エッチングやアッシングに最適です。
簡単な操作で使用でき、エッチングやアッシングに最適です。
特長
- チャンバーサイズ:9.2インチと14.4インチの2機種ラインナップ
- 独自のチャンバー設計
W.680×D.1,030×H.1,200
A uniform vertical gas flow is induced by applying a perforated plate, and 8-way flow line assembly that lead to a single exhaust port at the bottom.
Applications
Semiconductor
Process Recipe
- CF₄ : 5 sccm, CHF₃ : 25 sccm, Ar : 70 sccm
- Chuck Temp. : 20℃
- Pressure : 130 mTorr
- ~ 2000Å/min
- RF Power : 600W
- Selectivity（PR : SiO₂）= 1:3
Removal of OLED Imprinting Residue
Removal Rate
- 70~100 nm/min（Typical）
- 30~40 nm/min（Soft）
使用例
a) PPS membrane made from untreated PPS/SiO₂ Composite
- Severely aggregated SiO₂
- Sparsely found pores
b) PPS membrane made from MP treated PPS/SiO₂ Composite
- Uniform Pore Diameters
- Through-Channels all over